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近日，有韩国大企业、中坚企业员工涉嫌将半导体核心技术转移至中国，被查处并移交法院审判。

26日，据韩国专利厅技术设计特别司法警察和大田地方检察厅称：“两家韩国大企业和中坚企业前现任员工6人试图将有关半导体晶圆研磨（CMP）的技术泄露给中国遭到起诉。”本案首次由技术警察申请逮捕令，将主犯拘留后移交检方。

据专利厅称，本案主犯、中坚企业A公司的员工在晋升高管过程中被淘汰，于2019年6月决定与中国公司合伙从事半导体晶圆研磨剂的制造。他在A公司任职期间负责中国业务，于2020年5月跳槽到中国公司担任社长，此后挖来中坚企业B公司和大企业C公司的研究员，安排他们入职中国公司。他们涉嫌使用电脑和办公手机登录公司内网，阅览机密资料，并使用私人手机拍照后泄密。他们试图泄密的资料属于商业秘密，其中还包括国家核心技术。据悉，A、B、C公司均为上市公司，总市值达66万亿韩元（约合人民币3633.96亿元）。

去年3月，技术警察接到国家情报院的情报后着手调查，跳槽到中企的员工因为新冠疫情短暂回国，警方趁机对他们进行追踪并掌握证据。技术警察给出了3人拘留，3人不拘留起诉的起诉意见并移交检方，大田地方检察厅以涉嫌违反《产业技术保护法》、《不正当竞争法》等于本月对他们提起诉讼。

专利厅表示：“受害企业中规模最小的B公司因技术外泄蒙受了1000亿韩元（约合人民币5.5亿元）以上的经济损失”，“所幸这伙人在利用泄露的资料在中国正式开展业务之前被捕，避免了进一步的损失。”