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当地时间17日，三星电子在美国硅谷美洲法人办公楼举行的“Samsung Tech Day 2018”活动上宣布，成功开发采用EUV（极紫外）光刻技术的7纳米（1纳米等于十亿分之一米）级代工制程并正式投产。据悉，三星是继台积电后第二个开发出7纳米制程的公司，以及全球首家将其应用于EUV的公司。代工是接受半导体设计公司或智能手机厂商订单生产半导体的行业，台湾的台积电业界排名第一。


三星电子引进的EUV工艺是能够缩短当前半导体生产时间的同时提高产量的技术。以原有的技术绘制7纳米级的微电路需要经过多道工艺，但EUV技术可以大幅减少工艺流程。通过该技术缩短生产时间的同时，半导体性能较10纳米级产品提高了20%以上。三星电子代工战略营销组裴永灿（音）副总裁表示：“今后将在所有领域适用新一代代工技术。”

半导体业界十分关注今后三星究竟能够将与世界排名第一的台积电之间的差距缩小至何种程度。台积电自今年6月开始进行7纳米代工的量产。台积电在投入7纳米工艺的同时，垄断了即将应用于美国苹果iPhone的最新型半导体（A12）和新一代半导体（A13）的代工订单。三星电子计划通过引进EUV技术结束台积电的垄断。

另外，三星电子当天还公布了大量的半导体存储器新产品。包括全球首款256GB级服务器用D-RAM，数据存储容量较现有产品增加了2倍，耗电量降低了30%。另外，还推出了数据储存空间达100层以上的第六代NAND闪存技术。