申请专利：中国7纳米芯片光刻技术取得突破

（德国之声中文网）包括“芯智讯”在内的网络媒体报道称，国家知识产权局于9月10日披露了一项名为“极紫外辐射发生装置及光刻设备”的发明专利，内容涉及极紫外辐射（EUV）发生装置及光刻设备，申请者为上海微电子装备（集团）股份有限公司。

EUV光刻技术是一种先进的芯片制造技术，可以在半导体晶圆上绘制极其精细的电路，从而生产出更小、更强大的芯片。这项技术使用极紫外光（EUV）作为光源，比传统光刻技术能实现更高的精度。拥有EUV光刻技术专利意味着掌握了制造7纳米及以下芯片的关键能力。

据相关报道，上海微电子此次披露的专利主要涉及EUV 光源和光刻设备，其中重点的极紫外辐射发生器（光源）主要包括腔体、靶材发生器、激光发生器、收集镜、电极板、气控部件等关键部件。

这一消息也引起了德国科技时政类媒体Telepolis的关注。该媒体近日发表报道称，中国在芯片领域正在迎头赶上。

报道作者认为，中国的技术进步几乎势不可挡。中国光刻设备市场99%的份额由荷兰阿斯麦（AMSL）及日本的尼康和佳能控制。只有阿斯麦生产7纳米以下芯片的设备。然而，阿斯麦在为中国客户提供服务方面面临压力，中国是其仅次于台湾的第二大市场。根据2023年年报，阿斯麦仅能满足中国订单的50%。据《南华早报》报道，自9月6日起，阿斯麦在中国提供零部件、软件更新和系统维护需要获得荷兰许可证。此前，需在美国获得出口许可。

制裁——与国家安全无关？

美国希望限制中国在计算机芯片领域的发展，声称国家安全受到威胁，因为中国也能够将计算机芯片用于人工智能和军事目的。Telepolis的报道指出：阿斯麦首席执行官克里斯托弗·福克特（Christophe Fouquet）曾经表示，华盛顿所关心的仅在有限范围内涉及国家安全。这些限制“主要出于经济原因”，并且“越来越难以辩称这与国家安全有关”。

荷兰和日本作为当今世界主要的连个芯片制造设备来源国，备受美国政府的关注。华盛顿已经敦促限制向中国供应各种芯片制造相关技术。但两国对此并不积极，导致白宫发出威胁，称如果海牙和东京不配合，将考虑实施最严厉的贸易限制措施。

根据中国媒体的报道，中国的通讯设备公司华为最新推出的Mate XT三折叠屏手机采用的麒麟9000处理器基于5纳米工艺制成。这也表明尽管备受国际制裁，中国企业仍然有能力生产出7纳米以下的先进芯片。但与此同时，也有分析人士认为华为和其合作伙伴找到了规避芯片设备出口管制的渠道，目前还没有压倒性证据表明华为拥有这些关键技术的完全本土供应链。

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